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소재에서 시스템까지, 정밀 산업의 미래를 선도하다
다공질 세라믹

웨이퍼 척

웨이퍼 척

우수한 평탄도와 균일한 흡착력을 바탕으로 그라인딩, 쏘잉, 검사, 세정 등 반도체 전후공정 전반의 다양한 장비에 최적화된 대응이 가능합니다.
고도의 정밀성이 요구되는 HBM(고대역폭메모리) 제조 공정을 비롯하여 TSV 및 TGV와 같은 차세대 패키징 기술에 필수적인 솔루션을 제공합니다.
웨이퍼의 안정적인 고정과 보호가 핵심인 본딩 및 디본딩 장비에서도 탁월한 성능과 신뢰성을 제공하고 있습니다.
다양한 공정 환경에 맞춰 최적의 다공질 소재와 설계를 제안하며, 고객사의 생산 수율 향상과 초정밀 공정 안정화를 지원합니다.

웨이퍼척 wafer chuck 백그라인딩 척 Back grinding chuck

01

컬 (Curl) 흡착 우수, 자재 데미지 예방

기존의 알미늄 홀타입과는 달리 미세한 기공으로
이루어진 다공질 세라믹으로 컬 (Curl) 흡착과
표면 데미지를 예방

웨이퍼 진공척 Wafer vacuum chuck 폴리싱 연마척 Polishing chuck 베큠척 Vacuum Chuck SiC Wafer Chuck

02

고정밀 대응가능

당사의 독자적인 연마기술로 제품의 우수한
평탄도를 달성할 수 있습니다.
(요구 평탄에 대한 협의 가능)

반도체용 웨이퍼 세정 Wafer cleaning 전용 포러스척 Porus chuck Semiconductor wafers SiC 베큠척

03

내 파티클성 우수

대기공 세라믹을 사용하여 자재 가공중 발생하는 미세한 파티클을 그대로 흡착하여 배출 가능한 제품